一、行业水质标准：
我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、国内外大规模集成电路水质标准。
二、行业对水质的要求：
光电材料生产、加工、清洗；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
三、反渗透设备工艺流程
原水箱
储存原水，设高、低水位控制。对系统的给水起调节作用，防止自来水给水不足的影响，同时也可对自来水中的杂质起一定的沉淀作用。（如水压过低或过高引起的压力传感的反应）。
原水泵
提供预处理系统正常工作的动力源，为保持后序设备的正常运行，增加压力。泵相应设置高过热保护器、压力控制器，出现故障自动报警。
多介质过滤器
采用多次过滤层的过滤器，主要目的是去除原水中含有的泥沙、铁锈、胶体物质、悬浮物等颗粒在20um以上的物质。而且还可以使水中的有机物质、xj、病毒等随着浊度的降低而被大量去除，并为滤后xd创造了良好条件。经过砂滤器原水浊度可降低至5mg/L以下。保证设备的产水质量，延长设备的使用寿命。
活性炭过滤器
利用活性碳的吸附能力有效地吸附原水中的有机物、游离性余氯、胶体、微粒、微生物、某些金属离子及脱色等，使出水余氯含量＜0.1mg/L，所以被广泛用于生活用水及食品工业、化工、电力等工业用水的净化、脱氯、除油和去臭等。通常，经过活性碳过滤的水能够去除63%-86%的胶体物质；50%左右的铁以及47%-60%的有机物质。
离子软化系统
R/O装置为了溶解固体形物的浓缩排放和淡水的利用，为防止浓水端特别是RO装置{zh1}一根膜组件浓水侧出现CaCO3,MgCO3,MgSO4,CaSO4,BaSO4,SrSO4,SiSO4的浓度积大于其平衡溶解度常数而结晶析出，损坏膜原件的应有特性，在进入反渗透膜组件之前，应使用离子软化装置或投放适量的阻垢剂阻止碳酸盐，SiO2，硫酸盐的晶体析出.
保安过滤器
采用保安过滤器对进水中残留的悬浮物、非曲直粒物及胶体等物质去除，使RO系统等后续设备运行gaq、更可靠。滤芯为5um熔喷滤芯，目的是把上级过滤单元漏掉的大于5um的杂质除去。防止其进入反渗透装置损坏膜的表面，从而损坏膜的脱盐性能。
反渗透系统
是一种反向迁移运动。是一种在压力驱动下，借助于半透膜的选择截留作用将溶液中的溶质与溶液分开的分离方法，它已广泛应用于各种液体的提纯与浓缩，其中最普遍的应用实例便函是在水处理工艺中。用反渗透技术将原水中的无机离子、xj、病毒、有机物及胶体等杂质去除，以获得高质量的。通过反渗透装置的水，可以达到国家饮用水标准。反渗透装置脱盐率≥99%，水回收率≥50%
四、应用范围：
半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路；
LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏；
高品质显像管、萤光粉生产；
半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗；
超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料；
实验室和中试车间；
汽车、家电表面抛光处理；
光电产品；
其他高科技精微产品；
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