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鼎伟钛靶Ti
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鼎伟钛靶Ti

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江丽(销售经理)
18681059431
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东莞市鼎伟新材料有限公司
18681059431
东莞市南城区民间金融大厦
hao284064062840280@163.com
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东莞市鼎伟新材料有限公司

公司是专业生产高纯金属材料,蒸发镀膜材料以及溅射靶材的高新技术企业应用开发的科技型民营股份制工贸有限公司。公司以青岛大学和青岛科技大学蒸发材料专业为技术依托,拥有多名中高级专业技术人员和专业化应用实验室,具有很强的蒸发材料开发能力。公司先后研发的蒸发材料、溅射靶材系列产品广泛应用到国内外众多知名电子、太阳能企业当中,以较高的xjb,成功发替代了国外进口产品,颇受用户好评。
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东莞市鼎伟靶材有限公司是专业生产纯金属材料,蒸镀膜材料以及溅射靶材的技术企业应用的科技型民营股份制工贸有限公司。公司以青岛大学和青岛科技大学蒸材料专业为技术依托,拥有多名中级专业技术人员和专业化应用实验室,有很强的蒸材料能力。公司先后研的蒸材料、溅射靶材系列产品广泛应用到国内外众多知名子、太阳能企业当中,以较的价比,成功替代了国外进口产品,颇受用户好评。

鼎伟钛靶Ti

东莞市鼎伟靶材有限公司

联系人:肖先生

手机:18681059472           

话:0769-88039551

网站:    

邮箱: 

地址:东莞市南城区民间金融大厦

公司主要经营产品: 

一、真空镀膜材料 

1.纯真空溅射靶材(99.9%——99.999%)

纯金属靶材:锆靶Zr、铬靶Cr、钛靶Ti、铝靶Al、锡靶Sn、钒靶V、锑靶Sb、铟靶、硼靶B、钨靶W、锰靶Mn、铋靶Bi、铜靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、钽靶 Ta、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、钼靶Mo、钴靶Co、铁靶Fe、锗靶Ge、铪靶Hf、铅靶Pb、镍靶Ni、银靶Ag、硒靶Se、铍靶Be、碲靶Te、不锈钢靶材S.S等……

 

多元合金靶材: 钛铝靶Ti-Al、钛锆靶Ti-Zr、钛硅靶Ti-Si、钛镍靶Ti-Ni、镍铬靶Ni-Gr、镍铝靶Ni-Al、镍钒靶Ni-V、镍铁靶Ni-Fe、铁钴靶Fe-Co、铝硅靶Al-Si、钛硅靶Ti-Si、铬硅靶Cr-Si、锌铝靶Zn-Al、钛锌靶材Ti-Zn、铝硅铜靶Al-Si-Cu等……

 

陶瓷溅射靶材:ITO靶、单晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化钛靶TiO2、氧化锆靶ZrO2、二硼化钛靶TiB2、氧化镁靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二钇靶Y2O3、五氧化二钒靶V2O5、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、硫化钼靶MoS、硫化钨靶WS、氧化锌铝靶ZAO、氧化铝靶Al2O3、钛酸锶靶SrTiO3、五氧化二钽靶Ta2O5、五氧化二铌靶Nb2O5、氧化锌镓靶ZGO、氧化锌硼靶ZBO、砷化镓靶GaAs,磷化镓靶GaP,硒化锌靶、锰酸锂靶、镍钴酸锂靶、钽酸锂靶,铌酸锂靶、等… 

 

稀土金属靶:镧靶、铈靶、镨靶、钕靶、钐靶、铕靶、钆靶、铽靶、镝靶、钬靶、铒靶、铥靶、镱靶、镥靶、钇靶等… 

 

稀土氧化物靶:氧化镧靶、氧化铈靶、氧化镨靶、氧化钐靶、氧化铕靶、氧化钕靶、氧化钆靶、氧化铽靶、氧化镝靶、氧化钬靶、氧化铒靶、氧化铥靶、氧化镱靶、氧化镥靶 

金属膜阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu溅射靶材:

金属膜阻器用靶材括阻系列(ZYG)、中阻系列(ZYZ)和低阻系列(ZYC)、超低阻系列(ZYCD)。

 

2.纯光学镀膜材料(99.99%——99.999%)

氧化物:一氧化硅、二氧化硅、一氧化钛、二氧化钛、三氧化二钛、五氧化三钛、二氧化锆、二氧化铪、二氧化铈、二钛酸镨、三氧化钨、五氧化二钽、五氧化二铌、三氧化二钪、三氧化二铝、三氧化二铟、氧化镱、氧化锌、氧化镁、氧化钆、氧化钐、氧化钕、氧化钙、氧化镨、氧化铋、氧化铬、氧化镍、氧化铜、氧化铁、氧化钒等… 

氟化物:氟化镁、氟化钙、氟化钕、氟化镧、氟化镱、氟化钇、氟化铒、氟化T18919837845(不是联系方式)钐、氟化镝、氟化铈、氟化钡、氟化锶、氟化钾、氟化钠等… 

硫化物:硫化锌、硫化钼、硫化钙、硫化锑、硫化铁、硫化钠等…




众说周知,显示领域的ITO靶材中75% 的材料都含有铟,而中国铟产量占50%以,但几乎所有的显示领域所消耗的ITO靶材仍需要进口,在这一资金密集型领域,中国没有一家本土企业可以满足严格的质量要求,尽管中国没有本土的显示屏制造商,但国内企业想尽力涉足到ITO靶材市场

 

液晶显示屏的主要材料为铟锡氧化物,一般简称为ITO。 它是液晶显示器(LCD)、等离子显示器(PDP)、致光显示器(EL/OLED)、触摸屏(TouchPanel)、太阳能池以及其他子仪表的透明极最常用的薄膜材料。

超纯金属材料是半导体产业的必需原材料,也是被日美大型企业严重垄断,造成我国半导体产业依赖的关键材料。有人曾戏言,当年我国的半导体芯片产业除了水和空气来自中国,其余所有的设备、材料和工艺都来自国外。

 



氧化锆陶瓷        

溅射靶材          

黄金靶材    

工业陶瓷       

靶材厂家      

靶材          

氧化锆陶瓷棒      

机械陶瓷配件  

子枪灯丝         

 


【原创内容】
用。靶材进行预溅射时建议慢慢加大溅射功率,陶瓷类靶材的功率加大速率建议为1.5W时/平方厘米。金属类靶材的预溅射速度可以比陶瓷靶材块,一个合理的功率加大速率为直接影响真空度获得和加成膜失败的可能。短路或靶材起弧,成膜表面粗糙及化学杂质含量超标经常是由于不洁净的溅射室、溅射枪和靶材引起的。为保持镀膜的成分特,溅射清洁。第四步在qc完有污垢的区域后,再用压低水气的氩气冲洗靶材,以除去所有可能在溅射系统中会造成起弧的杂质粒三、靶材安装靶材安装过程中最重要的意事项是一定提供的已使用过的背靶后,我们会首先进行卸靶处理(如适用)并且对背靶进行wq检查,检查的重点括背靶的平整度,完整及密封等。我们会通知用户对背靶的检查结果,如平整度,同时确保O型密封圈始终在位置。四、短路及密封检查靶材完成安装后需要对整个阴极进行短路检查及密封检查,建议通过使用阻仪摇表的方式对阴极是否存在短直接影响真空度获得和加成膜失败的可能。短路或靶材起弧,成膜表面粗糙及化学杂质含量超标经常是由于不洁净的溅射室、溅射枪和靶材引起的。为保持镀膜的成分特,溅射

大部分背靶可以重复使用,尤其是采用金属铟进行帖合的比较容易进行清洁和重使用。如果是采用其他帖合剂(括环氧树脂)则可能需要采用机械处理的方式对背靶表面处理后才 

用户对背靶的检查结果,如我们现有需要维修的地方会书面通知户并提供维修报价。影响靶材中的因素主要是反应气体和溅射气体的比例,反应气体过量就会导致靶中。反应

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