吸收设备
吸收法采用低挥发或不挥发性溶剂对进行吸收，再利用VOCs和吸收剂物理性质的差异进行分离。
含VOCs的气体自底部进入塔内，在上升过程中与来自塔顶的吸收剂，净化后的气体由塔顶排出。吸收了VOCs的吸收剂通过热交换器后，进入汽提塔顶部，在温度高于吸收温度或压力低于吸收压力的条件下。解吸后的吸收剂经过溶剂冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs气体经过冷凝器、后以较纯的VOCs气体离开汽提塔，被回收利用。该工艺适合于VOCs浓度较高、温度较低的气体净化，其他情况下需要作相应的工艺调整。
吸附设备
在用多孔性固体物质处理流体混合物时，流体中的某一组分或某些组分可被吸表面并浓集其上，此现象称为吸附。吸附处理废气时，吸附的对象是，气固吸附。被吸附的气体组分称为，多孔固体物质称为吸附剂。
固体表面吸附了吸附质后，一部被吸附的吸附质可从表面脱离，此现附。而当吸附进行一段时间后，由于表面吸附质的浓集，使其吸附能力明显下降而吸附净化的要求，此时需要采用一定的措施使吸附剂上已吸附的吸附质，以协的吸附能力，这个过程称为吸附剂的再生。因此在实际吸附工程中，正是利用吸附一再生一再吸附的循环过程，达到除去废气中污染物质并回收废气中。
净化设备
燃烧法用于处理高浓度与有恶臭的化合物很有效，其原理是用过量的空气使这些杂质燃烧，大多数生成二氧化碳和，可以排放到大气中。但当处理有机化合物时，燃烧生成产物中HCl或SO2，需要对燃烧后气体进一步处理。
治理设备
就是处于电离状态的气体，其英文名称是，它是由美国科学 muir，于1927年在研究下汞蒸气中放电现象时命名的。等离子体由大量的子、、、光子和自由基等组成，但电子和正离子的电荷数必须体表现出，这就是“等离子体”的含义。等离子体具有导电和受电磁影响的许多方面与固体、液体和气体不同，因此又有人把它称为物质的第四种状态。根据状态、温度和，等离子体通常可以分为和低温等离子体（包子体和冷等离子体）。其中高温等离子体的接近1，各种温度几乎相同系处于状态，它主要应用在研究方面。而低温等离子体则学非平衡状态，各种粒子温度并不相同。其中( Te)≥离子温度(Ti)，可达104K以上，而其离子和的温度却可低到300～500K。一般气体放电子体属于低温等离子体。
截至2013年，对的作用机理研究认为是粒子的结果。低温等离富含电子、离子、自由基和分子，其中高能电子与气体分子（原子）发生撞，将成分子（原子）的内能，发生激发、和电离等一系列过秸处于活化状态。一方面打开了气体，生成一些单分子和固体微粒；另一力生．、
H2O2．等自由基和氧化性极强的
O3，在这一过程中高能电子起决定性作用，离子的只有副作用。常压下，产生的高度非平衡等离子体中电子温层氏度）远高于气体温度（室温100℃左右）。在非平衡等离子体中可能发生各种类型的化学反应，主要决定于电子的平均能量、、气体温度、有害气体分子浓度和≥气体成分。这为一些需要很大的反应如大气中难降解污染物的去除提供了另外也可以对低浓度、高流速、大风量的含挥发性和含硫类污染物等进行处理。
常见的产生等离子体的方法是气体放电，所谓气体放电是指通过某种机制使一电子从气体原子或分子中电离出来，形成的气体媒质称为电离气体，如果电离气由外电场产生并形成，这种现象称为。根据放电产生的机理、气体的压j源性质以及电极的几何形状、主要分为以下几种形式：①；③；④放电；⑤。无论哪一种形式产生的等离子体，都需要。容易打火产生危险。由于对诸如的治理，一般要求在常压下进行。
5、和生物净化设备
光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中wq氧化成md无害的产物，而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁，即使用常规的催化、氧化方法亦需要几百度的高温。
从理论上讲，只要半导体吸收的光能不小于其，就足以激发产生，该半导体就有可能用作。常见的单一化合物光催化剂多为或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点，具体研究中可根据需要选用，如CdS半导体带隙能较小，跟中的近紫外光段有较好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易发生光腐蚀，使用寿命有限。相对而言，Ti02的综合性能较好，是最广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。
