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美国考夫曼公司Gridded Ion Sources (栅极离子源) 系列 RFCIP (射频电源式考夫曼离子源), KDC (直流电源式考夫曼离子源) 已广泛被应用于离子溅射镀膜 (IBSD) 工艺.
离子溅射镀膜是在部分真空的溅射室中辉光放电, 产生正的气体离子；在（靶）和（试样）间电压的加速作用下, 荷正电的离子轰击阴极表面, 使阴极表面材料原子化；形成的中性原子, 从各个方向溅出, 射落到试样的表面, 于是在试样表面上形成一层均匀的薄膜.
伯东 KRI考夫曼可控制离子的强度及浓度, 使溅射 (Sputtering) 时靶材 (Target) 被轰击出具有中和性材料分子而获得高致密, 高质量之薄膜. 考夫曼离子源可依客户溅射 (Sputtering) 工艺条件选择 RFICP (射频电源式考夫曼离子源) 或是 KDC (直流电原式考夫曼离子源).
规格如下:
RFCIP (射频式考夫曼离子源) : , , , ,
KDC (直流式考夫曼离子源): , , , , .
伯东公司为 Kaufman & Robinson, Inc (美国考夫曼公司) KRI 大中国区总代理.
伯东是德国 , , , , 美国 , , 美国 , 美国 Ambrell 和日本 NS 等进口品牌的指定代理商.
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