设备采用先进的触摸屏和PLC集中控制，装有电脑自动换档真空计和三路流量控制器，一套逆变偏压，边装式加热管四支，电脑PID自动控温，两个侧装式平面靶，二套中频电源，因为采用先进的中频电源，所以设备不但可以镀制氮化钛、碳化钛、氮化锆、氮化铬及钛、镍、铬、铜、金银等等导电膜层，而且可以控制Si02等非导电膜层，其中不但镀制膜层细腻而且镀制速度非常快，兼有其他镀法的优点，所以是一种性能非常优良的镀膜设备，适用于门锁、手表零件、合页、五金等表面处理。
中频设备主要机型及参数:
参数 型号 700型 800型 900型 1000型
真空室尺寸 ф700×1000 ф800×1000 ф900×1000 ф1000×1000
抽气速率 １×105Pa~3×10-3Pa≤20min
极限真空度 ≤1×10-3Pa
系统配套 KT-400/2X-70
2X-15 KT-400/2X-70
2X-15 KT-500/2X-70
2X-15/ZLD-300 KT-500/2X-70
2X-15/ZLD-300 工件系统 行星式公自转形式（转轴数量8轴，可自定数量）
加热方式 边缘安装不锈钢加热管加热
离子轰击 直流1000V或逆变脉冲1000V高压轰击
充气系统 流量控制器控制送入工作气体
灯丝装置 配备灯丝辅助镀膜装置
磁控靶数量 2 2 2、4 2、4 溅射电源 中频电源1台 中频电源1台或2台
工作方式 PLC半自动控制或PC+PLC全自动控制方式
工作气体 Ar N2 O2C2H2
总功率 30KW 35KW 45KW 50KW
压缩空气 0.4~0.8MPa
水冷系统 水压/水温：≤25℃/≥0.25MPa(用户自备)
中频系列离子镀膜机是先进的膜装置，主要应用于镀制各种高质量的光滑
