【半导体制造行业废气处理工艺】：
半导体制造行业废气预处理设备（根据具体项目及废气源实际工况，可能涉及到粉尘去除、水气分离、高温降温处理、油膏油脂去除、酸碱水雾去除等相应的预处理措施）等离子UV光解除臭废气净化器高排。
等离子光解废气分解除臭净化器
【工作原理】
本设备是等离子分解废气净化器+UV光解除臭废气净化器两种设备的wm结合，综合采用了等离子废气净化器和紫外光触媒除臭废气净化器两种设备的优点组合而成，利用等离子分解技术和UV紫外光解技术相结合，对废气和臭气进行{gx}协同净化处理！
（1）废气和恶臭气体进入集成设备后，经过UV紫外光束区时，被紫外光波高能{gx}率地照射，瞬间产生光解反应，打开废气和臭味污染物分子的化学键，破坏其分子结构和核酸；利用高能紫外光波分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧，使呈游离状态的污染物分子与臭氧氧化结合成小分子无害或低害的化合物。如CO2、H2O 等。 UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。
（2）废气和恶臭气体经过等离子体电场区，在纳秒级时间范围内，等离子猛烈轰击废气和臭味等污染物分子，产生lb分解反应，产生高浓度、高强度、高能量的各种活性自由基、高能电子、高能离子等，同时产生大量臭氧、原子氧、生态氧等混合气体，进行一系列复杂的分化裂解和氧化还原反应。
（3）UV紫外光解与等离子分解如此{gx}协同地产生一系列光解和分解反应，经过复合式多级净化后从而达标排放！既能安全{gx}地净化治理各种有害废气，又能{gx}干净地去除各种恶臭味道。
