一、设备用途介绍：
本产品主要用于处理工业废气中的各种有害气体，裂解恶臭气体的分子键，使呈游离状态的污染物分子与臭氧氧化结合成小分子无害或低害的化合物，如CO2、H2O等。
二、设备技术介绍：
2-1：UV紫外线——促进列解
由于半导体的光吸收阈值与带隙具有式K=1240/Eg(eV)的关系,因此常用的宽带隙半导体的吸收波长阈值大都在紫外区域。当光子能量高于半导体吸收阈值的光照射半导体时,半导体的价带电子发生带间跃迁,即从价带跃迁到导带,从而产生光生电子(e-)和空穴(h+)。此时吸附在纳米颗粒表面的溶解氧俘获电子形成超氧负离子,而空穴将吸附在催化剂表面的氢氧根离子和水氧化成氢氧自由基。而超氧负离子和氢氧自由基具有很强的氧化性,能将绝大多数的有机物氧化至最终产物CO2和H2O,甚至对一些无机物也彻底分解。
2-2：172微波——内部穿透发热，促进拆分分子结构
172光波利用紫外光照射有机物表面，172波长的紫外光被物体表面吸收后，有机物分子结构的核酸产生大量的热量，分子链吸收光波涨大断裂，而大气中的氧气在吸收了波长为172nm的紫外光子后氧分子的原子氧极其活泼，这些原子氧会与被切断的有机物原子结合，并将之游离成的氧能基（如-OH，-CHO，-COOH），促进分子的再次新组合。
2-3：{zh1}通过足量的臭氧进行氧化——生成二氧化碳和水
臭氧去除污染物的基本过程
· 过程一：高能电子的直接轰击
· 过程二：O原子或臭氧的氧化
O2+e→2O
· 过程三：OH自由基的氧化索 H2O+e→OH+H
H2O+O→2OH
H+O2→OH+O
2-4：{zh1}通过足量的臭氧进行氧化——生成二氧化碳和水
有机废气→微波+光解＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3→CO2+H2O(达标排放),
产品技术原理：
产品先利于超强172微波对有机废或无机废气进行快速列解分裂打短，促进有害气体分子对高能UV紫外线光束的吸收，UV光束裂解恶臭气体中xj的分子键，破坏xj的核酸，由于有一部分有机物质分子结构是环状多链式的非常稳定，未打断分子结构的这一部物质再一次通低温超高压电击电解达到分子分裂，在分子分裂后由于设备高能185臭氧光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生大量臭氧。UV+172微波+电离+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),众所周知臭氧对有机物具有极强的氧化作用，对恶臭气体及其它刺激性异味有极强的qc效果。{zh1}通过臭氧发生器制造足够的氧离子对废气进行氧化，达到让废气生成二氧化碳和水的效果。由于臭氧对有机物具有极强的氧化作用，对恶臭气体及其它刺激性异味有立竿见影的qc效果。
2-5：废气处理工艺总流程：
UV紫外线（促进列解）+172微波（内部穿透发热，促进拆分分子结构） +臭氧进行氧化 = 二氧化碳+水
三．安装注意事项：
3-1：装卸货：设备运到工地卸货时，必须小心防碰撞防掉摔，当产品要移动位置时不能硬拖硬撬，以防撞坏设备内的玻璃灯管发生器。
3-2：设备空间：必须保证有足够的更换发生器以及过滤器的位置。
