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等离子体清洗的机理 相关信息由 郑州科创实验仪器设备有限公司提供。如需了解更详细的 等离子体清洗的机理 的信息，请点击 https://www.qiyeku.com/b2b/zztk001.html 查看 郑州科创实验仪器设备有限公司 的详细联系方式。
等离子体清洗的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用"达到去除物体表面污渍的目的。等离子体清洗通常包括以下过程：无机气体被激发为等离子态；气相物质被吸附在固体表面；被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；产物分子解析形成气相；反应残余物脱离表面。
*改变某些材料表面的性能。
*使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化，加强这些材料的粘附性、相容性和浸润性。
*金属材料表面的氧化层。
*对被清洗物进行、
优点：
具有性能稳定，，操作简便，使用成本低，易于维护的特点。对各种几何形状，表面粗糙程度各异的金属，陶瓷，玻璃，硅片，塑料等物件表面进行超清洗和改性，彻底地样品表面的有机染物。
定时处理、快速处理、清洗效率高。
绿色环保，不使用化学溶剂，对产品和环境无二次污染
在常温条件下进行超清洗，对样品非破坏性处理。
