KRI 线性霍尔 eH Linear
上海伯东代理美国原装进口 KRI 线性使用 eH 400 做为模组, 能应用于宽范围的衬底, 离长度高达 1 米, 通过严格调整模组间的距离可以实现更佳的均匀性和离子流. 由于模组是平行放置, 大大简化了气体, 功率和电子三者的分布. KRI 线性使用标准的端部霍尔模组并使设备的需求简化, 一个低成本, 高电流和低能量的离子束可以很好的使用于 web 涂层, in-line 沉积和圆柱旋转溅射系统.
霍尔离子源 eH 400 尺寸
尺寸: 直径= 3.7“ 高= 3”
放电电压 / 电流: 50-300eV / 5A
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体
KRI 霍尔 eH Linear 技术参数
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型号
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eHL400-2/ eHL400-3/ eHL400-4/ eHL400-5
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供电
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DC magnetic confinement
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- 电压
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40-200V VDC
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- 阳极结构
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模块化
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电源控制
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eHL-30010A
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配置
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-
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- 阴极中和器
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Filamentless
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- 离子束发散角度
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> 45° (hwhm)
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- 阳极
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标准或 Grooved
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- 底座
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移动或快接法兰
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- 高度
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10 cm
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宽度
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10 cm
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- 长度
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~ 100cm
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-工艺气体
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Ar, Xe, Kr, O2, N2, Others
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Model
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eHL 200-3
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eHL 200-5
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Height (nominal)
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2.9” (7.4cm)
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2.9” (7.4cm)
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Width (nominal)
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3.3” (8.4cm)
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3.3” (8.4cm)
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Length (nominal)
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Determined by number of modules & application
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Determined by number of modules & application
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Cathode/Neutralizer
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Yes
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Yes
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Anode module
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Yes
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Yes
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Filamentless
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Yes
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Yes
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Orientation
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Vertical / Horizontal
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Vertical / Horizontal
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Process gases
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Inert, reactive, & organic
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Inert, reactive, & organic
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Power controller
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eH Plasma Power Pack
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eH Plasma Power Pack
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1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产, 和. 美国历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国中国总代理.
